physical vapor deposition (pvd)中文是什么意思

• 物理汽相沉积

• "physical"中文翻译    adj. 1.物质的，有形的，形而下的 (opp. ps ...
• "vapor"中文翻译    n. 〔美国〕＝ vapour.
• "deposition"中文翻译    n. 1.免职，罢免；废位。 2.淤积[沉积](物，作用 ...
• "deposition, physical vapor (pvd)" 中文翻译 :    物理汽相沉积
• "deposition physical vapor" 中文翻译 :    物理汽相沉积
• "physical vapor deposition" 中文翻译 :    pvd; 磷酸盐皮膜处理; 物理气相沉积; 物理汽相淀积; 物理蒸镀
• "electron beam physical vapor deposition" 中文翻译 :    电子束物理气相沉积法
• "vapor deposition" 中文翻译 :    气相沉积; 气相淀积; 汽相沉淀; 汽相淀积; 真空镀膜; 蒸汽沉积
• "pvd" 中文翻译 :    玻璃体后脱离; 物理气相沉积法; 物理气相淀积; 物理汽相淀积
• "axial vapor phase deposition" 中文翻译 :    轴汽态淀积
• "chemical vapor deposition" 中文翻译 :    化学电镀; 化学气相沉积; 化学气相淀积; 化学汽相淀积; 化学蒸镀; 化学蒸气沉积法; 化学蒸汽淀积; 化学蒸着镀
• "chemical vapor deposition (cvd)" 中文翻译 :    化学汽相沉积; 化学汽相淀积
• "chemical vapor deposition film" 中文翻译 :    化学汽相淀积膜
• "chemical vapor deposition method" 中文翻译 :    化学气相淀积工艺
• "chemical vapor deposition process" 中文翻译 :    化学气相沉积
• "chemical vapor deposition reactor" 中文翻译 :    化学汽相淀积反应器
• "chemical vapor deposition system" 中文翻译 :    化学汽相沉积系统
• "cvd chemical vapor deposition" 中文翻译 :    化学水汽沉积
• "deposition, chemical vapor (cvd)" 中文翻译 :    化学汽相沉积
• "low temperature vapor deposition" 中文翻译 :    低温汽相淀积
• "metalorganic chemical vapor deposition" 中文翻译 :    金属有机化学气相沉积法
• "modified chemical vapor deposition" 中文翻译 :    改进的化学汽相沉积; 改进的化学汽相淀积
• "photochemical vapor deposition oxide" 中文翻译 :    光化学汽相淀积氧化物
• "plasma chemical vapor deposition" 中文翻译 :    等离子化学气相沉积; 等离子体化学汽相淀积
• "rate of vapor deposition" 中文翻译 :    汽相淀积速率

• Rf magnetron sputtering that has been broadly used to fabricate a variety of thin films is a kind of physical vapor deposition ( pvd ) , which consists of two main microscopic processes , one is the generation and transportation of the vapor phase particles to form the thin film , the other is the diffusion and aggregation of the film atoms on substrate , which leads to the formation of the film
  射频磁控溅射是一种物理气相沉积技术，已被广泛地用于各种薄膜的制备。它主要包括成膜气相粒子(原子或分子)的产生和输运以及输运到衬底的成膜粒子在衬底上的扩散、聚集、生长成膜两大过程。
• Coating cracks and defects are main reasons for the limited oxidation resistance of sic - c / sic . in this thesis , surface modification of sic coating was carried out with physical vapor deposition ( pvd ) and ion implantation & deposition , using al , b and si . effects of the modified coatings on the oxidation resistance of sic - c / sic were studied with sem , xrd and aes and so on
  本文采用了物理气相沉积方法和离子注入沉积方法，以al 、 b 、 si为改性元素，对sic涂层表面进行改性，封填裂纹和缺陷；结合扫描电镜( sem ) 、 x射线衍射( xrd )和俄歇能谱( aes )分析，研究了改性层对sic - c sic复合材料抗氧化性能的影响。